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TEM用氮化硅薄膜窗口

氮化硅薄膜窗特點

?  低應(yīng)力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撐膜：50nm厚的薄膜具有的視野范圍；8nm和15nm厚的無孔氮化硅薄膜適用于TEM超高分辨率的應(yīng)用

?  氮化硅支撐膜：低應(yīng)力的LPCVD非化學(xué)計量比氮化硅薄膜，良好的平整度、絕緣性和疏水性

?  良好的化學(xué)穩(wěn)定性：圖像分辨率和機械強度達(dá)到理想的平衡；

?  均勻性：減少了不同區(qū)域的不均勻性；

?  TEM斷面成像應(yīng)用的特殊窗口：適用于傾斜斷層成像的0.5x1.5mm大窗口，傾斜度可達(dá)75°

?  多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm

?  可應(yīng)用于多種顯微技術(shù)：良好的機械穩(wěn)定性使得同***種薄膜可應(yīng)用于TEM, SEM, EDX, XPS ａnd AFM 。

?  薄膜和基底耐酸，不會被溶解：可以在酸性條件或常規(guī)條件下研究、制備樣本

?  可應(yīng)用于高溫試驗環(huán)境： >1000° C

?  可提供更對精確的分析，如樣品中的碳含量，減少污染：可用于無碳環(huán)境中的TEM成像和分析

?  容易清洗：機械穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性使得薄膜很容易采用輝光放電或等離子清洗，無有機物殘留，改善成像質(zhì)量；

?  良好的平整度：良好的納米沉積基底和薄膜，無背景結(jié)構(gòu)適合于SEM成像

?  超凈加工，防止支撐膜上殘留微粒：100***的超凈間內(nèi)包裝

?  框架厚度：200 ａnd 50μm ：200μm是標(biāo)準(zhǔn)的TEM支撐架；50μm是特殊的TEM支撐架

?  標(biāo)準(zhǔn)框架直徑為3mm

?  同***批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性

氮化硅薄膜窗規(guī)格

單窗口系列

多窗口系列

應(yīng)用簡介：

1、適合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的對同***區(qū)域的交叉配對表征。

2、大窗口尺寸，適合TEM大角度轉(zhuǎn)動觀察。

3、無碳、無雜質(zhì)的清潔TEM觀測平臺。

4、背景氮化硅無定形、無特征。

5、耐高溫、惰性襯底，適應(yīng)各種聚合物、納米材料、半導(dǎo)體材料、光學(xué)晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境，（薄膜直接沉積在窗口上）。

6、生物和濕細(xì)胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后，窗口具有很好的親水性。

7、耐高溫、惰性襯底，也可以用于化學(xué)反應(yīng)和退火效應(yīng)的原位表征。

8、適合做為膠體、氣凝膠、有機材料和納米顆粒等的表征實驗承載體。