nanoArch P150微納3D打印機
nanoArch P150微納3D打印機由深圳市摩方材料科技有限公司自主研發的高精密微納3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統，將需打印模型分層投影至樹脂液面，快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜工業樣件。該技術具有成型效率高、加工成本低等突出優勢，被認為是目前***具有前景的微尺度加工技術之***。
基本參數
光源：UV-LED(405nm)
打印材料：高精度硬性光敏樹脂，支持韌性樹脂、PEGDA、耐高溫樹脂、生物醫用樹脂、柔性樹脂、水凝膠、透明樹脂、低收縮樹脂、二氧化硅摻雜樹脂、二氧化皓摻雜樹脂等其他功能樹脂等
光學精度：25μm
打印層厚：10-50μm
打印尺寸：48mm(L)×27mm(W)×50mm(H)
文件格式：STL
設備功率：3000W
系統外形尺寸：520㎜(L)×530㎜(W)×680㎜(H)
重量：90kg
電氣要求：100-240V AC,50/60HZ,1.5kW
應用領域：
可廣泛應用于生物檢測、微機械、柔性材料與器件、生物醫療工程等領域
滬公網安備31011502016460號
